S-Subway Quartz Polishing, SQP series

氧化鈰是目前性能最為優異的稀土拋光材料之一，與其他拋光材料相比，具有以下特性：
1. 較強的化學活性以及針對於拋光氧化物─氮化物具有高度選擇比。
2. 硬度相對其餘拋光材料(ex. Diamond, Al₂O₃)來的柔軟，其莫氏硬度~6.0)，拋光過程中對於材料表面造成的刮痕較輕微。
3. 在鹼性拋光條件下呈兩性性質，能同時吸附陰陽離子。
4. 拋光速率可操作性高，當材料不平整時有較高的拋光速率；待表面修至平整後，可藉由添加劑的作用下，使拋光速率下降。

 

產品名稱	SQP-100	SQP-101	SQP-200
主要成分	CeO₂	CeO₂	SiO₂
pH	10.00 ~ 12.00	10.00 ~ 12.00	10.00 ~ 12.00
平均粒徑 (nm)	300	100~150	90
外觀	白色	白色	白色
搭配市售拋光墊	LP66 (環球光學)	LP66 (環球光學)	SUBA600 (杜邦) Politex (杜邦)