S-Subtal Coarse Polish, SCP series
針對矽晶圓粗拋段製程所開發，依客戶需求有二氧化矽系列與氧化鋁系列，產品擁有優異的可調性與適用性。
| SCP-1100 | SCP-1200 | SCP-2100 | |
| 主要成分 | SiO2 | SiO2 | Al2O3 |
| 粒徑大小 | 100nm | 100nm | 150-200nm |
| 外觀 | 乳白色 | 乳白色 | 白色 |
| 特性 | 拋光速度極快 矽晶圓侵蝕速度亦快 |
拋光速度快 矽晶圓侵蝕速度易控制 |
拋光液使用時間較長 |
| SCP-8200 | SCP-9100 | ||
| 主要成分 | SiO2 | SiO2 | |
| 粒徑大小 | 20 - 60nm | 60 - 100nm | |
| 外觀 | 乳白色 | 乳白色 | |
| 特性 | 拋光速度快 晶圓侵蝕速度易控制擁有良好表面品質 |
拋光速度優異 晶圓侵蝕速度快 擁有良好平整度 |
