S-Subway Coarse Polishing, SCP series
針對各式半導體晶圓(矽晶圓、砷化鎵、磷化銦、碳化矽、氮化鎵...等)粗拋段製程所開發,依照晶圓特性及客戶需求選用磨料有二氧化矽、氧化鋁、氧化鈰系列,我司產品擁有優異的可調性與適用性(客製化)。
品名 | SCP-3140 | |
兩劑型 | Part A | Part B |
主要成分 | Al₂O₃ | Additives |
pH | 9.00 ~ 11.00 | 1.00 ~ 3.00 |
平均粒徑 (nm) | 350 | --- |
外觀 | 白色 | 透明無色 |
特性 | 拋光速度快 |
────────────────────────────────────────────────────────────────
S-Subway Fine Polishing, SFP series
針對各式半導體晶圓(矽晶圓、砷化鎵、磷化銦、碳化矽、氮化鎵...等)粗拋段製程所開發,依照晶圓特性及客戶需求選用磨料有二氧化矽、氧化鋁、氧化鈰系列,我司產品擁有優異的可調性與適用性(客製化)。
品名 | SCP-3000 | |
兩劑型 | Part A | Part B |
主要成分 | SiO₂ | Additives |
pH | 8.50 ~ 10.50 | 1.00 ~ 3.00 |
平均粒徑 (nm) | 100 | --- |
外觀 | 白色 | 透明無色 |
特性 | 拋光後表面具有優異的Ra |